Ion Implantation: Basics to Device Fabrication (The Springer International Series in Engineering and Computer Science, 293, Band 293)
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Beschreibung
"Ion Implantation: Basics to Device Fabrication" von Emanuele Rimini ist ein umfassendes Werk, das die fundamentalen Prinzipien und Anwendungen der Ionenimplantation in der Halbleitertechnik behandelt. Das Buch gehört zur Springer International Series in Engineering and Computer Science und bietet eine detaillierte Einführung in die physikalischen Grundlagen der Ionenimplantation sowie deren praktische Anwendungen bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen. Rimini beginnt mit einer Erklärung der physikalischen Prozesse, die bei der Ionenimplantation auftreten, einschließlich der Wechselwirkungen zwischen den implantierten Ionen und dem Zielmaterial. Es wird auf die theoretischen Modelle eingegangen, die zur Beschreibung dieser Prozesse verwendet werden, sowie auf experimentelle Techniken zur Charakterisierung implantierter Schichten. Der Autor führt den Leser dann durch verschiedene Aspekte des Implantationsprozesses, wie z.B. Dosissteuerung, Energieverteilung und Temperaturmanagement. Besondere Aufmerksamkeit wird den Effekten gewidmet, die während des Implantationsprozesses auftreten können, wie z.B. Strahlenschäden und Rekristallisation. Ein weiterer Schwerpunkt des Buches liegt auf den praktischen Anwendungen der Ionenimplantation in der Mikroelektronik. Rimini beschreibt detailliert die Rolle der Ionenimplantation bei der Herstellung verschiedener Halbleiterbauelemente wie Transistoren und Dioden. Dabei werden sowohl traditionelle Siliziumtechnologien als auch fortschrittliche Materialien wie Galliumarsenid berücksichtigt. Das Buch schließt mit einem Ausblick auf zukünftige Entwicklungen im Bereich der Ionenimplantationstechnologie und deren potenzielle Anwendungsmöglichkeiten in neuen Bereichen wie Nanotechnologie und Quantencomputing. Insgesamt bietet "Ion Implantation: Basics to Device Fabrication" eine fundierte Wissensbasis sowohl für Studierende als auch für Fachleute in den Bereichen Physik, Materialwissenschaften und Elektrotechnik, die sich mit den technischen Aspekten und Anwendungen der Ionenimplantation vertraut machen möchten.
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