Ionenimplantation in der Halbleitertechnik
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Beschreibung
"Ionenimplantation in der Halbleitertechnik" ist ein Fachbuch, das sich mit den grundlegenden Prinzipien und Anwendungen der Ionenimplantation in der Herstellung und Modifikation von Halbleitermaterialien beschäftigt. Das Werk bietet eine umfassende Einführung in die physikalischen Grundlagen der Ionenimplantation, einschließlich der Wechselwirkungen zwischen Ionen und Festkörpern sowie der daraus resultierenden Materialmodifikationen. Das Buch behandelt verschiedene Aspekte des Implantationsprozesses, wie die Auswahl geeigneter Ionenarten, Implantationsdosen und -energien sowie die Steuerung der Tiefenprofile implantierter Atome. Es wird detailliert auf die Auswirkungen von Strahlenschäden und deren Heilung durch thermische Prozesse eingegangen. Ein weiterer Schwerpunkt liegt auf den praktischen Anwendungen in der Mikroelektronik, insbesondere bei der Herstellung von Transistoren, Dioden und anderen Bauelementen. Die Rolle der Ionenimplantation bei der Dotierung von Halbleitern zur Steuerung ihrer elektrischen Eigenschaften wird ausführlich erläutert. Zusätzlich werden moderne Entwicklungen und technologische Fortschritte im Bereich der Ionenimplantation vorgestellt, einschließlich neuer Anlagentechnologien und fortschrittlicher Analyseverfahren zur Charakterisierung implantierter Schichten. Insgesamt bietet das Buch einen fundierten Überblick über Theorie und Praxis der Ionenimplantation und richtet sich sowohl an Studierende als auch an Fachleute aus Wissenschaft und Industrie, die sich mit den Herausforderungen und Möglichkeiten dieser Schlüsseltechnologie auseinandersetzen möchten.
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