Silizium-Halbleitertechnologie: Grundlagen mikroelektronischer Integrationstechnik
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Beschreibung
"Silizium-Halbleitertechnologie: Grundlagen mikroelektronischer Integrationstechnik" von Ulrich Hilleringmann bietet eine umfassende Einführung in die Welt der Halbleitertechnologie mit einem besonderen Fokus auf Silizium als Basismaterial. Das Buch behandelt die grundlegenden physikalischen und chemischen Eigenschaften von Halbleitern und erklärt die Prozesse, die zur Herstellung integrierter Schaltkreise notwendig sind. Dazu gehören Themen wie Dotierung, Oxidation, Lithographie und Ätzverfahren. Darüber hinaus wird auf moderne Entwicklungen und Herausforderungen in der Mikroelektronik eingegangen, einschließlich Miniaturisierungstrends und technologischer Innovationen. Es richtet sich sowohl an Studierende der Ingenieurwissenschaften als auch an Fachleute in der Mikroelektronikindustrie, die ein tiefes Verständnis für die technischen Aspekte der Halbleiterherstellung gewinnen möchten.
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