
Fotolithografie: Grundlagen der Mikrostrukturierung
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Beschreibung
Das Buch "Fotolithografie: Grundlagen der Mikrostrukturierung" von Christian Koch bietet eine umfassende Einführung in die Schlüsseltechniken und Prinzipien der Fotolithografie, einem zentralen Verfahren in der Halbleiter- und Mikrosystemtechnik. Es deckt die theoretischen Grundlagen und praktischen Aspekte ab, einschließlich der physikalischen und chemischen Prozesse, die bei der Belichtung und Entwicklung von Fotolacken zum Einsatz kommen. Wichtige Themen wie Maskentechnologie, Belichtungsparameter, Auflösungsgrenzen sowie moderne Entwicklungen wie EUV-Lithografie werden detailliert behandelt. Das Buch richtet sich sowohl an Studierende als auch an Fachleute in der Mikroelektronik und verwandten Bereichen, die ein tiefgehendes Verständnis für die Techniken zur Herstellung mikrostruktureller Bauelemente erlangen möchten.
Produktdetails

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Über den Autor
- hardcover
- 388 Seiten
- Erschienen 2006
- Wiley-VCH
- Gebunden
- 313 Seiten
- Erschienen 2008
- Wiley-VCH
- Kartoniert
- 248 Seiten
- Erschienen 2009
- Springer
- Gebunden
- 370 Seiten
- Erschienen 2011
- Wiley-VCH
- Gebunden
- 480 Seiten
- Erschienen 2008
- Wiley-VCH
- Gebunden
- 330 Seiten
- Erschienen 2005
- Wiley-VCH
- perfect
- 520 Seiten
- Erschienen 2013
- Springer
- perfect -
- Erschienen 1988
- FisicalBook
- paperback
- 208 Seiten
- Erschienen 2013
- humboldt
- Hardcover
- 400 Seiten
- Erschienen 1977
- De Gruyter
- Gebunden
- 435 Seiten
- Erschienen 2011
- Wiley-VCH
- Hardcover -
- Erschienen 2014
- Springer Vieweg
- Gebunden
- 507 Seiten
- Erschienen 2006
- Wiley-VCH
- Gebunden
- 259 Seiten
- Erschienen 2009
- Wiley-VCH
- Gebunden
- 461 Seiten
- Erschienen 2011
- Wiley-VCH
- Gebunden
- 352 Seiten
- Erschienen 2011
- Wiley-VCH
- Hardcover -
- Erschienen 2008
- Springer