Fotolithografie: Grundlagen der Mikrostrukturierung
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Beschreibung
Das Buch "Fotolithografie: Grundlagen der Mikrostrukturierung" von Christian Koch bietet eine umfassende Einführung in die Schlüsseltechniken und Prinzipien der Fotolithografie, einem zentralen Verfahren in der Halbleiter- und Mikrosystemtechnik. Es deckt die theoretischen Grundlagen und praktischen Aspekte ab, einschließlich der physikalischen und chemischen Prozesse, die bei der Belichtung und Entwicklung von Fotolacken zum Einsatz kommen. Wichtige Themen wie Maskentechnologie, Belichtungsparameter, Auflösungsgrenzen sowie moderne Entwicklungen wie EUV-Lithografie werden detailliert behandelt. Das Buch richtet sich sowohl an Studierende als auch an Fachleute in der Mikroelektronik und verwandten Bereichen, die ein tiefgehendes Verständnis für die Techniken zur Herstellung mikrostruktureller Bauelemente erlangen möchten.
Produktdetails
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Über den Autor
- Gebunden
- 260 Seiten
- Erschienen 1991
- Springer
- Gebunden
- 587 Seiten
- Erschienen 2008
- Springer
- Hardcover -
- Erschienen 2011
- dpunkt.verlag
- Gebunden
- 472 Seiten
- Erschienen 2020
- Carl Hanser Verlag GmbH & C...
- Gebunden
- 223 Seiten
- Erschienen 2019
- Carl Hanser Verlag GmbH & C...
- hardcover
- 48 Seiten
- Erschienen 2014
- Franckh Kosmos Verlag
- Kartoniert
- 192 Seiten
- Erschienen 2020
- De Gruyter Oldenbourg
- Gebunden
- 328 Seiten
- Erschienen 2010
- Springer
- Hardcover
- 48 Seiten
- Erschienen 1994
- arsEdition
- hardcover
- 332 Seiten
- Erschienen 2009
- Taylor & Francis




