Fotolithografie: Grundlagen der Mikrostrukturierung
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Beschreibung
Das Buch "Fotolithografie: Grundlagen der Mikrostrukturierung" von Christian Koch bietet eine umfassende Einführung in die Schlüsseltechniken und Prinzipien der Fotolithografie, einem zentralen Verfahren in der Halbleiter- und Mikrosystemtechnik. Es deckt die theoretischen Grundlagen und praktischen Aspekte ab, einschließlich der physikalischen und chemischen Prozesse, die bei der Belichtung und Entwicklung von Fotolacken zum Einsatz kommen. Wichtige Themen wie Maskentechnologie, Belichtungsparameter, Auflösungsgrenzen sowie moderne Entwicklungen wie EUV-Lithografie werden detailliert behandelt. Das Buch richtet sich sowohl an Studierende als auch an Fachleute in der Mikroelektronik und verwandten Bereichen, die ein tiefgehendes Verständnis für die Techniken zur Herstellung mikrostruktureller Bauelemente erlangen möchten.
Produktdetails
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Über den Autor
- Hardcover
- 508 Seiten
- Erschienen 2006
- Vieweg+Teubner Verlag
- hardcover
- 334 Seiten
- Erschienen 2014
- dpunkt.verlag GmbH
- hardcover -
- VERLAG TECHNIK,
- hardcover -
- Erschienen 1982
- Gustav Fischer Verlag Jena
- hardcover
- 278 Seiten
- Vogel-Verlag