Fotolithografie: Grundlagen der Mikrostrukturierung
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Beschreibung
Das Buch "Fotolithografie: Grundlagen der Mikrostrukturierung" von Christian Koch bietet eine umfassende Einführung in die Schlüsseltechniken und Prinzipien der Fotolithografie, einem zentralen Verfahren in der Halbleiter- und Mikrosystemtechnik. Es deckt die theoretischen Grundlagen und praktischen Aspekte ab, einschließlich der physikalischen und chemischen Prozesse, die bei der Belichtung und Entwicklung von Fotolacken zum Einsatz kommen. Wichtige Themen wie Maskentechnologie, Belichtungsparameter, Auflösungsgrenzen sowie moderne Entwicklungen wie EUV-Lithografie werden detailliert behandelt. Das Buch richtet sich sowohl an Studierende als auch an Fachleute in der Mikroelektronik und verwandten Bereichen, die ein tiefgehendes Verständnis für die Techniken zur Herstellung mikrostruktureller Bauelemente erlangen möchten.
Produktdetails
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Über den Autor
- Gebunden
- 386 Seiten
- Erschienen 2016
- Wiley-VCH
- hardcover
- 388 Seiten
- Erschienen 2006
- Wiley-VCH
- Gebunden
- 313 Seiten
- Erschienen 2008
- Wiley-VCH
- Gebunden
- 1088 Seiten
- Erschienen 2012
- Wiley-VCH
- Gebunden
- 330 Seiten
- Erschienen 2005
- Wiley-VCH
- Hardcover -
- Erschienen 2014
- Springer Vieweg
- perfect
- 520 Seiten
- Erschienen 2013
- Springer
- Gebunden
- 312 Seiten
- Erschienen 2008
- Springer
- Gebunden
- 376 Seiten
- Erschienen 2017
- Wiley-VCH
- Gebunden
- 502 Seiten
- Erschienen 2004
- Springer
- hardcover
- 332 Seiten
- Erschienen 2009
- Taylor & Francis
- hardcover
- 488 Seiten
- Erschienen 2006
- Springer
- hardcover
- 364 Seiten
- Erschienen 2005
- Springer




