Thin Film Deposition: Principles and Practice
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Beschreibung
„Thin Film Deposition: Principles and Practice“ von Donald L. Smith ist ein umfassendes Werk, das sich mit den grundlegenden Prinzipien und praktischen Aspekten der Dünnschichtabscheidung beschäftigt. Das Buch bietet einen detaillierten Überblick über verschiedene Methoden zur Herstellung dünner Schichten, die in zahlreichen technologischen Anwendungen wie Mikroelektronik, Optik und Materialwissenschaften eine entscheidende Rolle spielen. Ein zentraler Teil des Buches widmet sich den physikalischen und chemischen Grundlagen der Dünnschichttechnologie. Es behandelt verschiedene Abscheidungsverfahren wie physikalische Gasphasenabscheidung (PVD), chemische Gasphasenabscheidung (CVD) sowie neuere Techniken wie Atomlagenabscheidung (ALD). Zudem werden die Eigenschaften und Charakterisierungsmethoden von dünnen Filmen ausführlich beschrieben. Smith legt besonderen Wert auf die praktische Umsetzung der theoretischen Konzepte und bietet zahlreiche Beispiele und Fallstudien aus der Industrie. Dadurch wird das Buch zu einer wertvollen Ressource sowohl für Studierende als auch für Fachleute, die im Bereich der Materialwissenschaften oder Ingenieurwesen tätig sind.
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