
Atomic Layer Deposition of Nanostructured Materials
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Beschreibung
"Atomic Layer Deposition of Nanostructured Materials" von Mato Knez bietet eine umfassende Einführung in die Technik der Atomlagenabscheidung (ALD) und ihre Anwendung zur Herstellung nanostrukturierter Materialien. Das Buch deckt die grundlegenden Prinzipien der ALD-Technologie ab, einschließlich des chemischen Ablaufs, der Materialauswahl und der Prozessparameter. Es beleuchtet die Vorteile dieser Methode für die präzise Kontrolle auf atomarer Ebene und deren Einsatz in verschiedenen Bereichen wie Elektronik, Optik und Energiespeicherung. Zudem werden aktuelle Fortschritte und Herausforderungen bei der Integration von ALD in industrielle Anwendungen diskutiert. Durch seine detaillierte Darstellung eignet sich das Werk sowohl für Wissenschaftler als auch für Ingenieure, die sich mit modernen Materialherstellungstechniken beschäftigen.
Produktdetails

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Über den Autor
- Gebunden
- 1088 Seiten
- Erschienen 2012
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- Gebunden
- 777 Seiten
- Erschienen 2012
- Wiley-VCH
- Gebunden
- 195 Seiten
- Erschienen 2013
- Wiley-VCH
- Hardcover
- 496 Seiten
- Erschienen 2013
- John Wiley & Sons Inc
- hardcover
- 352 Seiten
- Erschienen 2008
- Wiley-VCH
- Hardcover
- 232 Seiten
- Erschienen 2021
- Springer
- hardcover
- 696 Seiten
- Erschienen 2001
- CRC Press
- Gebunden
- 663 Seiten
- Erschienen 2007
- Wiley-VCH
- Gebunden
- 192 Seiten
- Erschienen 2007
- Springer
- hardcover
- 390 Seiten
- Erschienen 2009
- CRC Press Inc
- Gebunden
- 742 Seiten
- Erschienen 2017
- Wiley-VCH
- Gebunden
- 370 Seiten
- Erschienen 2011
- Wiley-VCH
- hardcover
- 906 Seiten
- Erschienen 2010
- Wiley-VCH
- Gebunden
- 330 Seiten
- Erschienen 2005
- Wiley-VCH
- Gebunden
- 784 Seiten
- Erschienen 2023
- Wiley-VCH