Thin Film Deposition: Principles and Practice
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Beschreibung
"Thin Film Deposition: Principles and Practice" von Donald L. Smith ist ein umfassendes Fachbuch, das sich mit den grundlegenden Prinzipien und praktischen Anwendungen der Dünnschichtabscheidung beschäftigt. Es bietet eine detaillierte Einführung in die verschiedenen Methoden der Dünnfilmherstellung, einschließlich physikalischer und chemischer Abscheidungsverfahren wie PVD (Physical Vapor Deposition) und CVD (Chemical Vapor Deposition). Das Buch behandelt die physikalischen Grundlagen, Materialeigenschaften sowie die technischen Herausforderungen und Lösungen bei der Produktion von Dünnschichten. Zudem wird auf Anwendungsbereiche in der Mikroelektronik, Optik und anderen High-Tech-Industrien eingegangen. Durch zahlreiche Illustrationen und praxisnahe Beispiele wird das Verständnis für komplexe Prozesse erleichtert, was es zu einer wertvollen Ressource für Studierende und Fachleute auf diesem Gebiet macht.
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