Catalytic Chemical Vapor Deposition: Technology and Applications of Cat-CVD
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Beschreibung
Das Buch "Catalytic Chemical Vapor Deposition: Technology and Applications of Cat-CVD" von Ruud E.I. Schropp bietet eine umfassende Darstellung der katalytischen chemischen Gasphasenabscheidung (Cat-CVD). Diese Technologie ist ein bedeutendes Verfahren in der Materialwissenschaft und Halbleiterindustrie, das zur Abscheidung dünner Filme verwendet wird. Das Buch behandelt die Grundlagen des Cat-CVD-Prozesses, einschließlich der beteiligten chemischen Reaktionen und der Rolle von Katalysatoren. Es werden verschiedene Anwendungen dieser Technologie in Bereichen wie Elektronik, Photovoltaik und Beschichtungen untersucht. Zudem werden die Vorteile von Cat-CVD gegenüber herkömmlichen CVD-Methoden diskutiert, darunter niedrigere Prozesstemperaturen und verbesserte Filmeigenschaften. Das Werk richtet sich an Wissenschaftler, Ingenieure und Studierende, die sich mit fortschrittlichen Abscheidungsverfahren beschäftigen.
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