High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology
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Beschreibung
"High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology" von Zhaoqi Sun bietet eine umfassende Übersicht über die Entwicklung und Anwendung von High-k-Materialien in der CMOS-Technologie. Das Buch untersucht die Herausforderungen und Vorteile, die mit der Integration dieser Materialien in moderne Halbleiterbauelemente verbunden sind. Es behandelt grundlegende physikalische Prinzipien, Materialeigenschaften und Herstellungsverfahren, um die Leistungsfähigkeit und Zuverlässigkeit von Transistoren zu verbessern. Darüber hinaus werden aktuelle Forschungsergebnisse und technologische Fortschritte vorgestellt, die zur Optimierung der elektrischen Eigenschaften und zur Reduzierung von Leckströmen beitragen. Dieses Werk richtet sich an Ingenieure, Forscher und Studierende im Bereich der Mikroelektronik, die ein tieferes Verständnis für das Potenzial von High-k-Dielektrika in zukünftigen Technologien gewinnen möchten.
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