High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology
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Beschreibung
"High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology" von Zhaoqi Sun beschäftigt sich mit den Herausforderungen und Fortschritten im Bereich der Halbleitertechnologie, insbesondere bei der Entwicklung von High-k-Gate-Dielektrika für CMOS-Technologien. Das Buch erläutert die Notwendigkeit, traditionelle Siliziumdioxid-Dielektrika durch Materialien mit höherer Dielektrizitätskonstante zu ersetzen, um den steigenden Anforderungen an Leistung und Miniaturisierung gerecht zu werden. Es behandelt die physikalischen und chemischen Eigenschaften dieser Materialien, ihre Herstellungsmethoden sowie deren Integration in bestehende Herstellungsprozesse. Zudem werden Themen wie Zuverlässigkeit, Skalierbarkeit und elektrische Eigenschaften der High-k-Materialien diskutiert. Das Buch richtet sich an Ingenieure, Wissenschaftler und Studierende im Bereich der Mikroelektronik und Materialwissenschaften.
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