Ion Implantation Range and Energy Deposition Distributions
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Beschreibung
"Ion Implantation Range and Energy Deposition Distributions" ist ein wissenschaftliches Buch, das sich auf die detaillierte Untersuchung der Ionenimplantation konzentriert. Es bietet eine umfassende Analyse der Energieverteilung und Reichweite von Ionen in verschiedenen Materialien. Das Buch behandelt auch die physikalischen Prozesse, die bei der Ionenimplantation auftreten, einschließlich Schadensbildung und Kanalisierung. Es stellt mathematische Modelle zur Vorhersage dieser Verteilungen vor und diskutiert ihre Anwendung in verschiedenen Bereichen wie Halbleitertechnologie und Materialwissenschaften. Dieses Werk ist für Forscher und Ingenieure gedacht, die sich mit Materialverarbeitung und -modifizierung durch Ionenimplantation beschäftigen.
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