Dry Etching for VLSI (Updates in Applied Physics and Electrical Technology)
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Beschreibung
"Dry Etching for VLSI" von S.J.H. Brader bietet eine umfassende Einführung in die Technologien und Methoden des Trockenätzens, die für die Herstellung von Very-Large-Scale Integration (VLSI) Schaltkreisen entscheidend sind. Das Buch behandelt die physikalischen und chemischen Grundlagen der Trockenätzprozesse sowie deren Anwendung in der Mikroelektronikfertigung. Es wird auf verschiedene Techniken wie Plasmaätzen und reaktives Ionenätzen eingegangen, wobei der Fokus auf den Herausforderungen und Lösungen bei der Miniaturisierung von Bauteilen liegt. Praktische Beispiele und aktuelle Entwicklungen in der angewandten Physik und Elektrotechnik werden ebenfalls thematisiert, um Ingenieuren und Forschern ein tiefes Verständnis dieser essenziellen Fertigungstechnologie zu vermitteln.
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